Composant d'extraction d'ions Axcelis référence 17099281
Cette ouverture d'extraction est dédiée aux systèmes de fabrication de semi-conducteurs utilisant la plateforme de forte dose Axcelis GSD. Elle assure la transition du faisceau depuis la chambre à arc vers la ligne de transport.
Caractéristiques mécaniques de l'ouverture
- Conception d'origine : Conforme aux plans Axcelis GSD
- Matériaux résistants : Traitement de surface anti-pulvérisation
- Identification : Gravure de la référence 17099281
Usage en environnement de production de plaquettes
Ce produit répond aux besoins des usines de fabrication de puces électroniques fonctionnant en continu. Sa géométrie propre prévient l'effet de neutralisation du faisceau, maintenant un niveau de productivité conforme aux spécifications de l'implanteur.
